MBRAUN グローブボックス（MBRAUN UNILAB2000)
酸素と水分の濃度を10ppm 以下の環境に保ちます．ペロブスカイトの合成などに必須な装置です．
ポリマー薄膜生成装置
UNICO UL1000A のグローブボックスと接続し，大気解放することなく，表面に有機薄膜を生成します．
スピンコーター
UNICOグローブボックス内に設置して，大気暴露に弱い有機材料からなる薄膜を生成します．
アークプラズマ蒸着装置（アドバンス理工APG-1000）
Bi2Te3熱電薄膜蒸着など，化合物薄膜を生成する装置として利用しています．
スパッタリング薄膜蒸着装置
一般的な金属に加え，透明電極となるITO薄膜を生成する際に利用します．
真空蒸着装置（アルバック理工 VPC-260）
油拡散ポンプと抵抗加熱を利用した一般的な真空蒸着装置です．3ω法のAl細線生成をはじめ，多くの場面で利用します．
E-Beam蒸着装置
熱電子を高電圧で加速して，高融点材料を溶かして薄膜生成する装置です．SiO2薄膜など表面に絶縁層を生成する際に利用しています．
雰囲気制御加熱炉
蒸着薄膜の物性を高める熱処理に利用します．H2混合ArやN2などのガスを導入して利用します．
プラズマ照射装置
基板表面の洗浄や改質に利用します．
ドラフター
化学薬品を利用する際に必須です．
簡易クリーンブース
塵の付着などが致命的な問題になる試料作製はこの中で行います．
超純水生成装置
イオン交換膜を利用したり，脱気する装置で実験に必要となる清浄な水を生成します．
遊星型ボールミル（Fritsch PL7）
数10μm直径の粉末をさらに粉砕して，粉末直径を数μmからサブミクロンサイズにまで小さくします．
微粒子サイズ測定装置（HORIBA Partica）
光散乱によって，液体に含まれる2nmから2mmまでの微粒子の直径を測定します．
テーブルプレス装置（TB-50H）
微粒子を加圧，加熱して焼結します．アークプラズマガンのターゲットの生成など，幅広く利用します．
触針型膜厚測定装置（DEKTAK）
薄膜の物性評価において，膜厚測定は必須です．10nmから数100nm程度の膜厚を測定します．
デジタル顕微鏡（Keyence VHX）
ミクロンオーダーの表面形状を測定し，3次元形状をデジタル合成で生成します．
卓上走査型電子顕微鏡（JASCO pure）
20,000倍まで拡大して対象を観察することができます．数100nm程度の対象表面を観察します．
FT-IR（JASCO FT-IR 670）
対象の赤外(波長2μmから20μmmまで)に対する透過率，反射率を測定します．
可視ー赤外分光器（リツ―光学）
450nmの可視から10μmの赤外まで光を3枚の回折格子2つの光センサーで分光します．
赤外線カメラ（NEC AVIO TVS-200EX）
対象からの赤外線を測定し，非接触温度測定します．
ホール効果測定装置（ECOPIA HMS-3000）
半導体のキャリア濃度を測定します．
四探針法抵抗率装置（三菱化学 ロレスタ）
半導体薄膜などの抵抗率を測定します．
音叉型振動式粘度計（A&D SV-10）
液体の粘度を測定します．
3ω法熱伝導率測定装置
真空中で液体窒素温度から100℃程度までの温度範囲で薄膜の熱伝導率を3ω法により測定します．
熱電特性測定装置
真空中で室温から500℃程度まで，熱電薄膜のゼーベック係数と導電度を測定します．
データロガー
多点温度計測や電圧を計測し，PCに転送します．
光学測定装置
レーザー加熱やレーザー干渉などを使って，非接触で対象の物性や挙動を測定します．
機械加工装置
簡単な実験装置であれば，旋盤，フライス盤，ボール盤，セラミックスカッターなどで自作します．